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CVD系統(tǒng)

回轉(zhuǎn)CVD設(shè)備負極材料燒結(jié)設(shè)備二維材料制備碳納米管

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BTF-1200C-II-R-CVD自動進出料回轉(zhuǎn)CVD系統(tǒng)

更新時間：2025-09-04

型號：BTF-1200C-II-R-CVD

瀏覽量：2332

自動進出料回轉(zhuǎn)CVD系統(tǒng)產(chǎn)品簡介： 1.該設(shè)備爐管可360度旋轉(zhuǎn)，管內(nèi)壁有石英擋片幫助粉料翻轉(zhuǎn)有助于燒結(jié)得更均勻； 2.可左右大角度傾斜，方便出放料，傾斜角度在0~35°之間。 3、廣泛應(yīng)用于電池正負極材料，無強酸堿性粉體材料，顆粒狀物料。 4、可在真空下或氣氛保護下進行燒制。
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BTF-1200C-III-150-CVD間歇式CVD回轉(zhuǎn)爐

更新時間：2025-09-05

型號：BTF-1200C-III-150-CVD

瀏覽量：1327

間歇式CVD回轉(zhuǎn)爐由控制柜和加熱爐組成，控制柜為密封殼體，內(nèi)置電路板和氣路板，外部可通過觸摸屏及手閥操控電路和氣路；加熱爐由一臺三溫區(qū)開啟式管式爐及相應(yīng)配件組成，爐管可回轉(zhuǎn)。
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BST-1200C-CVD立式流化床-多壁碳納米管制備設(shè)備

更新時間：2025-09-05

型號：BST-1200C-CVD

瀏覽量：1005

1、氣體先經(jīng)過氣體預(yù)熱爐預(yù)熱后進入流化床反應(yīng)腔體，可以降低大量冷氣流進入腔體對工藝的影響。 2、反應(yīng)器出口配有攪動裝置，防止碳管在反應(yīng)器出口堵塞。 3、進液口附近配有測溫熱電偶，可以控制進液口的溫度。 4、進液口活動式，可以根據(jù)工藝需要的溫度調(diào)整上下位置。 5、收集器排氣口安裝可轉(zhuǎn)動式濾網(wǎng)，方式濾網(wǎng)堵塞。
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BTF-1600C-CVD-D21600℃多源高溫CVD系統(tǒng)

更新時間：2025-09-05

型號：BTF-1600C-CVD-D2

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這是一臺1600℃多源高溫CVD系統(tǒng)。電氣控制采用內(nèi)置控溫儀表，其控溫精準且操作直觀簡便。爐管為剛玉管，左端法蘭為進氣端，配有壓力保護組件和2個進氣口，其中一路由截止閥控制，為進混氣；另外一路為環(huán)硼氮烷，通過電磁閥+單向閥控制；右端法蘭為出氣端，配有蝶閥控制的壓力控制系統(tǒng)和真空泵組成，法蘭前端配有攪拌機構(gòu)，對于尾端沉積物料具有清理作用，同時配有過濾組件。
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BTF-1500C-CVD小型浮動催化系統(tǒng)CVD系統(tǒng)

更新時間：2025-09-05

型號：BTF-1500C-CVD

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BTF-1500C-CVD是小型浮動催化系統(tǒng)CVD系統(tǒng)，配備真空系統(tǒng)，可以低壓條件下進行實驗；設(shè)備配有雙向推拉注射泵、氧分析儀、防爆控制柜、收集罐、密封腔室等組件。
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BTF-1400C-II-OP-R多功能回轉(zhuǎn)CVD系統(tǒng)

更新時間：2025-09-05

型號：BTF-1400C-II-OP-R

瀏覽量：735

多功能回轉(zhuǎn)CVD系統(tǒng)由加熱系統(tǒng)、爐管轉(zhuǎn)動系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng)，工控及操作系統(tǒng)等結(jié)構(gòu)組成。
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BTF-1200C-SL-A等離子增加化學氣相沉積CVD系統(tǒng)

更新時間：2025-09-05

型號：BTF-1200C-SL-A

瀏覽量：873

BTF-1200C-SL-A是一款新型智能型滑軌等離子增加化學氣相沉積CVD系統(tǒng)。本設(shè)備集真空系統(tǒng)、供氣流量系統(tǒng)、自動推進、加熱于一體，并將所有控制集成于觸屏操控界面之中，使設(shè)備更加智能化，便于使用者操作。溫度范圍寬：100-1200度可調(diào)，加熱區(qū)域長度：1650mm。適用范圍寬：金屬薄膜，陶瓷薄膜等，復合薄膜，連續(xù)生長各種薄膜等。
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BTF-1200C-III-R-CVD-150回轉(zhuǎn)CVD系統(tǒng)

更新時間：2025-09-05

型號：BTF-1200C-III-R-CVD-150

瀏覽量：1453

該設(shè)備是定制回轉(zhuǎn)CVD系統(tǒng)，可實現(xiàn)一次加3L粉料進行生產(chǎn)；從結(jié)構(gòu)上共分成主體設(shè)備、上料機構(gòu)、收料機構(gòu)三大模塊。
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