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此款設備是快速冷卻卷對卷等離子體增強CVD連續生長爐，它由高溫生長腔體，質量流量計氣路系統，真空機組，RF射頻電源模塊，石英管，冷卻裝置，收放卷的密封裝置，自動化控制系統組成，兩端分別安裝有進料進氣真空腔室和出料排氣真空腔室（即收放卷的密封裝置），收放密封裝置內分別對應安裝有放卷滾輪和收卷滾輪，所輸出料排氣腔體與爐體之間安裝有冷卻裝置。相對于現有技術具有快速冷卻、連續生長的優點。

低真空CVD石墨烯生長系統是由1200度開啟式管式爐、精密的質量流量控制系和真空系統所組成。廣泛應用在半導體、納米材料、碳纖維、石墨烯等新材料、新工藝領域。